Oxidations- und Reinigungsmittel 

Elektronik

Als vertikal integrierter, führender Anbieter von Wasserstoffperoxid produziert Evonik unter dem Markennamen PERTRONIC® mehrere Typen hochreinen Wasserstoffperoxids, die in Halbleiter- und Elektronikfertigungsprozessen eingesetzt werden. Evonik bietet PERTRONIC® Grade 1 bis Grade 5+ Produkte an, die den strengen SEMI Halbleiterspezifikationen und den Anforderungen der Elektronikindustrie hinsichtlich Reinheit und Stabilität entsprechen. Unsere PERTRONIC® Produkte werden weltweit in den modernsten Halbleiter- und Elektronikproduktionsstätten eingesetzt. Wir bieten Zuverlässigkeit, Konsistenz und Produktqualität auf Weltniveau.

Anwendungen in der modernen Halbleiter- und Elektronikfertigung

PERTRONIC® Wasserstoffperoxid von Evonik ist für die anspruchsvollsten Anwendungen in der Halbleiter- und Elektronikfertigung konzipiert. Unsere Produkte werden in einem breiten Spektrum von Endanwendungen eingesetzt, das von kostengünstigen Display- und LED-Anwendungen über ältere analoge, digitale und Leistungsbauelemente bis hin zu den fortschrittlichsten Speicher- und Logikprodukten reicht, die 7nm-Technologieknoten und darüber hinaus verwenden.

In der Halbleiterindustrie spielt PERTRONIC® Wasserstoffperoxid eine wesentliche Rolle im Herstellungsprozess integrierter Schaltungen. Im Front-End-of-Line-Bereich wird es vor allem als Oxidationsmittel in kritischen Wafer-Reinigungs- und Oberflächenkonditionierungsschritten bei der Transistorbildung, der Kupfer/ULK-Dual-Damascene-Bildung und bei Post-CMP-Reinigungsanwendungen eingesetzt. Darüber hinaus wird es als Oxidationsmittel sowohl bei Kupfer- und Wolfram-CMP-Prozessen als auch bei selektiven Metallätzanwendungen verwendet. Im Back-End-of-Line wird Wasserstoffperoxid als Oxidationsmittel in Reinigungs- und Oberflächenkonditionierungsanwendungen im Zusammenhang mit 2,5D- und 3D-Verpackungsanwendungen sowie als Ätzmittel bei der Herstellung von Leiterplatten angewendet.

In der Display-Industrie bietet PERTRONIC® Wasserstoffperoxid von Evonik wertsteigernde und kosteneffiziente Lösungen bei der Herstellung von modernen Flachbildschirmen. Das Produkt eignet sichhervorragend für die Entfernung von Fotolack und die Nassreinigung, sowie als Kupferätzmittel für die präzise Entfernung von dünnen Schichten, die bei der Herstellung von Verbindungen verwendet werden.

Bitte kontaktieren Sie Ihren regionalen Vertriebsleiter für weitere Informationen zu PERTRONIC®.

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Jun Kim