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Oxidations- und Reinigungsmittel 

Für elektronische Anwendungen bietet Evonik PERTRONIC® an, eine hoch reine, gering stabilisierte Wasserstoffperoxid-Qualität, welche die Anforderungen der Elektronikindustrie in Bezug auf Reinheit und Stabilität erfüllt.


PERTRONIC®, unser hoch reines Wasserstoffperoxid in Elektronik-Qualität, wird von der Elektronikindustrie allein oder in Kombination mit Schwefelsäure als Oxidations- und Reinigungsmittel bei der Herstellung von Halbleitern sowie als Ätzmittel bei der Produktion gedruckter Schaltkreis-Platinen verwendet. Wasserstoffperoxid/Schwefelsäure-Ätzmittel sind aufgrund ihrer geringen Kosten, ihrer hohen Effektivität sowie verminderten Entsorgungsproblemen gefragt.

In der Halbleiterproduktion erfordert die effektive Reinigung feiner Geometrien und Werkzeuge eine Nassbearbeitung. Eine zunehmende Anzahl an Bearbeitungsschritten erfordert die Anwendung von Reinigungsmitteln mit extrem hoher Reinheit. Auf Wasserstoffperoxid basierende Rezepturtechnologien zeichnen sich durch ein überragende Leistung aus. Zu den gängigen Reinigungs- und Oberflächenbehandlungs-Sequenzen, bei denen Wasserstoffperoxid-/Schwefelsäuregemische verwendet werden, gehören die Fotolack-Enfternung, die Nachbehandlung sowie die Entfernung von Rückständen.

Wasserstoffperoxid wird ebenfalls zunehmend bei der Herstellung von LCDs eingesetzt. Durch veränderte Produktionsprozesse verwenden LCD-Hersteller zunehmend Kupferverdrahtungen. Dies führt zu einer Verlagerung von Aluminium- zu Kupfer-Ätzmitteln. Durch ihre vorteilhaften Eigenschaften stellen auf Wasserstoffperoxid basierende Kupfer-Ätzmittel den modernsten Stand der Technik dar.

Bitte wenden Sie sich an Ihren Regionalvertreter, um weitere Informationen über PERTRONIC® zu erhalten.

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